Nucleation of chemical vapor deposited silicon nitride on silicon dioxide.

• M. Copel, P. R. Varekamp, D. W. Kisker, F. R. McFeely, K. E. Litz, M. M. Banaszak Holl. Appl. Phys. Lett. 1999 74 1830-1832.
  See: Litz, Kyle E.